Autodesk Nastran 2019.2 破解版下载 crack

Autodesk Nastran 2019.2

Autodesk 很高兴地宣布推出 Nastran 2019.2。此版本提供压配合接触条件,平滑的 STL 几何体和新的拓扑设计优化处理器参数 TOPMAXPNORMEXP。

Autodesk Nastran 2019.2 | 1.3 Gb | 破解版 Crack

Product: Autodesk Nastran
Version: 2019.2
Supported Architectures: x64
Website Home Page : http://www.autodesk.com
Language: english
System Requirements: PC
Supported Operating Systems: Windows 7even or newer
Size: 1.3 Gb

Nastran 2019.2(2018 年 10 月)的新功能:

已修复问题:

第三方解算器,核心 Nastran

– TO:形状和迭代差异取决于 CPU 编号。

Core Nastran

– Linux 上的 Nastran 无法正确处理 INCLUDE 关键字。
– 使用 OUTGEOMFILETYPE = 1 生成慢速 STL。
– 拓扑优化 – 求解器需要能够正确处理正位移值和负位移值。
– 使用 TET10 元件求解线性静应力的反作用力较低。
– 当 OUTGEOMFILETYPE = 2 时,某些模型发生崩溃(堆栈转储)。
– 使用 INCRGEOMOUT = ON 时发生崩溃(堆栈转储)。
– 使用附加约束时 TO 形状的断开。
– 许可证握手随机失败。
– 解决后留下未使用的临时文件夹。
– 在应力误差​​计算期间,大预应力正常模式分析模型崩溃。
– ASCG 中使用某些 TET10 模型生成的接触元件数量可能小于给定指定 MAXAD 时的接触元件数量。

关于 Autodesk Nastran

Autodesk Nastran 是 Autodesk 机械仿真产品的集成解决平台。

经过验证和认可的 FEA 技术

计算精度是解算器设计中最重要和最基本的。强大的软件设计,开发方法和架构可避免妥协并保持求解器精度。Autodesk Nastran 在每个新版本和数十年的实际应用历史中进行全面验证,确保了准确性的声誉。由于其精确性和分析结果的保真度,它已达到这种接受程度。

使用 NAFEMS 和其他已发布的基准测试的广泛验证程序和文档集有助于确保准确的解决方案。每个软件版本都验证了 5,000 多个测试问题,以确保 Nastran 独有的一致性和众多改进更新,从而实现前所未有的精确度。

处理器前后兼容性

Autodesk Nastran 与读取 Nastran 数据文件的预处理器和后处理器兼容,例如 Siemens Femap,MSC Patran 和 Altair Hypermesh,为工程师和分析师提供了使用 Nastran 解算器的灵活性,并且具有高级功能具有首选预处理器和后处理器的功能。

满足未来仿真需求

的可扩展性 Autodesk Nastran 平台可通过第三方附加组件轻松扩展到其他解决方案类型,因此您可以根据需要增加现在和将来所需的任务。随着分析和模拟需求变得更加复杂,无需采用全新的 FEA 平台。

实时分析和结果

实时分析使工程师能够更好地控制其 FEA 模型和​​结果。高级编辑,上下文相关输入和动态帮助等功能从一开始就大大提高了工作效率和结果可靠性。

贸易研究生成器和参数优化等内置工具使用户可以快速了解设计变更的影响。通过集成的结果处理器显示实时结果,因此用户可以在解决方案序列中生成结果。这些功能使 Autodesk Nastran 成为工程师和分析师不可或缺的解决方案。

包装和可用性

开展业务的便利性成为使工程师和分析师制作出色产品的重要因素。Autodesk Nastran 可与多个预处理器和后处理器配合使用; 允许多核部署; 并提供区域和全球使用权限,以便于部署。全球范围内使用 Autodesk 的综合工程工具使 Nastran 易于获取。Nastran 提供高端仿真技术,帮助您获得复杂仿真的准确结果。

注意: 截至 2018 年 3 月 21 日,我们已停止以独立产品的形式向新客户销售 Autodesk Nastran 软件。为了简化体验并为客户提供更多价值,现在可以在 Autodesk Nastran In-CAD 中使用该功能。

关于 Autodesk

Autodesk 帮助人们想象,设计和创造一个更美好的世界。从设计专业人员,工程师和建筑师到数字艺术家,学生和业余爱好者,每个人都使用 Autodesk 软件来释放他们的创造力并解决重要挑战。

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